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著者 (8件)：
資料名：
巻： 39 号： 8B ページ： L866-L868 発行年： 2000年08月15日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902135695404373
整理番号：00A0835570
ArFエキシマレーザによる被覆光分解過程を用いるPbTiO3薄膜の調製
Preparation of PbTiO3 Thin Films Using a Coating Photolysis Process with ArF Excimer Laser.
TSUCHIYA T
(National Inst. Materials and Chemical Res., Ibaraki, JPN)
,
WATANABE A
(National Inst. Materials and Chemical Res., Ibaraki, JPN)
,
IMAI Y
(National Inst. Materials and Chemical Res., Ibaraki, JPN)
,
NIINO H
(National Inst. Materials and Chemical Res., Ibaraki, JPN)
,
YAMAGUCHI I
(National Inst. Materials and Chemical Res., Ibaraki, JPN)
,
MANABE T
(National Inst. Materials and Chemical Res., Ibaraki, JPN)
,
KUMAGAI T
(National Inst. Materials and Chemical Res., Ibaraki, JPN)
,
MIZUTA S
(National Inst. Materials and Chemical Res., Ibaraki, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 39 号： 8B ページ： L866-L868 発行年： 2000年08月15日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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