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文献
J-GLOBAL ID:200902136106395900   整理番号:95A0062364

二酸化けい素で囲まれたシリコン量子細線の作製とその輸送特性

Fabrication of a silicon quantum wire surrounded by silicon dioxide and its transport properties.
著者 (7件):
NAKAJIMA Y
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
TAKAHASHI Y
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
HORIGUCHI S
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
IWADATE K
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
NAMATSU H
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
KURIHARA K
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
TABE M
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 65  号: 22  ページ: 2833-2835  発行年: 1994年11月28日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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