文献
J-GLOBAL ID:200902136106395900
整理番号:95A0062364
二酸化けい素で囲まれたシリコン量子細線の作製とその輸送特性
Fabrication of a silicon quantum wire surrounded by silicon dioxide and its transport properties.
著者 (7件):
NAKAJIMA Y
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
,
TAKAHASHI Y
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
,
HORIGUCHI S
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
,
IWADATE K
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
,
NAMATSU H
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
,
KURIHARA K
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
,
TABE M
(NTT LSI Lab., Atsugi, JPN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
65
号:
22
ページ:
2833-2835
発行年:
1994年11月28日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)