文献
J-GLOBAL ID:200902137210635740
整理番号:01A0690567
GaAs/Ge/GaAs副格子反転エピタクシーおよび非線形光学デバイスへのその応用
GaAs/Ge/GaAs sublattice reversal epitaxy and its application to nonlinear optical devices.
著者 (4件):
KOH S
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
KONDO T
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
SHIRAKI Y
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
ITO R
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
資料名:
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻:
227/228
ページ:
183-192
発行年:
2001年07月
JST資料番号:
B0942A
ISSN:
0022-0248
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)