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著者 (3件)：
資料名：
巻： 18 号： 4,Pt.2 ページ： 1649-1652 発行年： 2000年07月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902137280486245
整理番号：00A0729107
アンバランス高周波マグネトロンスパッタリングによるCo及びCoNx薄膜の作製
Preparation of Co and CoNx thin films by unbalanced radio frequency magnetron sputtering.
TANAKA T
(Hiroshima Inst. Technol., Hiroshima, JPN)
,
KAWABATA K
(Hiroshima Inst. Technol., Hiroshima, JPN)
,
KITABATAKE A
(Sanyo Vacuum Ind. Co., LTD., Higashi-Osaka, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 18 号： 4,Pt.2 ページ： 1649-1652 発行年： 2000年07月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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