文献
J-GLOBAL ID:200902137435899819
整理番号:01A0317325
制御された屈折率を有するポリシラン-シリカハイブリット薄膜類の調製
Fabrication of Polysilane-Silica Hybrid Thin Films with Controlled Refractive Index.
著者 (3件):
MATSUURA Y
(Osaka Municipal Technical Res. Inst., Osaka)
,
MATSUKAWA K
(Osaka Municipal Technical Res. Inst., Osaka)
,
INOUE H
(Osaka Municipal Technical Res. Inst., Osaka)
資料名:
Chemistry Letters
(Chemistry Letters)
号:
3
ページ:
244-245
発行年:
2001年03月05日
JST資料番号:
S0742A
ISSN:
0366-7022
CODEN:
CMLTAG
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)