文献
J-GLOBAL ID:200902137622659970
整理番号:01A0283002
反応性スパッタリングにより作製したInN膜の電気及び光学特性
Electrical and optical properties of InN films prepared by reactive sputtering.
著者 (2件):
SAITO N
(Takamatsu National Coll. Technol., Takamatsu, JPN)
,
IGASAKI Y
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
169/170
ページ:
349-352
発行年:
2001年01月15日
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)