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著者 (5件)：
資料名：
巻： 143 号： 1 ページ： 92-96 発行年： 1996年01月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902138119997821
整理番号：96A0192554
HFでエッチングしたけい素表面における銅沈着 形態と速度
Copper Deposition on HF Etched Silicon Surfaces: Morphological and Kinetic Studies.
CHYAN O M R
(Univ. North Texas, Texas, USA)
,
CHEN J-J
(Univ. North Texas, Texas, USA)
,
CHIEN H Y
(Univ. North Texas, Texas, USA)
,
SEES J
(Texas Instruments, Texas, USA)
,
HALL L
(Texas Instruments, Texas, USA)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 143 号： 1 ページ： 92-96 発行年： 1996年01月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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