文献
J-GLOBAL ID:200902138779082702
整理番号:01A0552164
シンクロトロン放射光アブレーションによる機能性炭素化合物薄膜の作製
Deposition of functional carbon compound thin films by synchrotron radiation ablation.
著者 (6件):
MIKI H
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
,
LIN S
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
,
SASAKI M
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
,
KATOH T
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
,
IMAI S
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
,
NAKAYAMA Y
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
資料名:
Diamond and Related Materials
(Diamond and Related Materials)
巻:
10
号:
3/7
ページ:
937-941
発行年:
2001年03月
JST資料番号:
W0498A
ISSN:
0925-9635
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)