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著者 (5件)：
資料名：
巻： 15 号： 3 ページ： 367-370 発行年： 2002年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902138891310475
整理番号：02A0616882
DUV及びVUVリソグラフィー用に化学増幅を用いた表面シリル化単一層レジスト
A Surface-Silylated Single-Layer Resist Using Chemical Amplification for Deep-UV and Vacuum-UV Lithography.
SUGITA K
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
YAMASHITA M
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
HARADA K
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
KUSHIDA M
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
SAITO K
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 15 号： 3 ページ： 367-370 発行年： 2002年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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