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著者 (8件)：
資料名：
巻： 35 号： 6A ページ： 3590-3594 発行年： 1996年06月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902139910318845
整理番号：96A0705043
rfマグネトロンスパッタリングにおける活性粒子生成へのHeガス添加の効果
Effects of He Gas Addition on the Production of Active Particles in rf Magnetron Sputtering.
HARADA K
(Tottori Univ., Tottori, JPN)
,
KISHIDA S
(Tottori Univ., Tottori, JPN)
,
MATSUOKA T
(Tottori Univ., Tottori, JPN)
,
MURUYAMA T
(Tottori Univ., Tottori, JPN)
,
TOKUTAKA H
(Tottori Univ., Tottori, JPN)
,
FUJIMURA K
(Tottori Univ., Tottori, JPN)
,
KOYANAGI T
(Yamaguchi Univ., Yamaguchi, JPN)
,
FUJII T
(Kansai Res. Inst., Kyoto, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 35 号： 6A ページ： 3590-3594 発行年： 1996年06月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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