文献
J-GLOBAL ID:200902140424344646
整理番号:03A0050113
電子ビームに誘起されたパターニングプロセスによるセルフアライントップ電極がある強誘電体ミクロキャパシタの製造
Fabrication of Ferroelectric Microcapacitors with Self-Aligned Top Electrodes by Electron-Beam-Induced Patterning Process.
著者 (4件):
OKAMURA S
(Nara Inst. Sci. and Technol. (NAIST), Nara, JPN)
,
MAEKAWA T
(Nara Inst. Sci. and Technol. (NAIST), Nara, JPN)
,
SUZUKI K
(Nara Inst. Sci. and Technol. (NAIST), Nara, JPN)
,
SHIOSAKI T
(Nara Inst. Sci. and Technol. (NAIST), Nara, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
41
号:
11B
ページ:
6754-6757
発行年:
2002年11月30日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)