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文献
J-GLOBAL ID:200902141246834959   整理番号:02A0761483

半導体エレクトロニクス 赤外光弾性法を用いた半導体ウェハ・デバイス中のひずみ分布測定

著者 (3件):
福沢理行
(京都工繊大 工芸)
CHU T
(京都工繊大 工芸)
山田正良
(京都工繊大 工芸)

資料名:
材料  (Journal of the Society of Materials Science, Japan)

巻: 51  号:ページ: 966-970  発行年: 2002年09月15日 
JST資料番号: F0385A  ISSN: 0514-5163  CODEN: ZARYA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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