文献
J-GLOBAL ID:200902141905162947
整理番号:95A0818816
GaNのイオン注入ドーピングとアイソレーション
Ion implantation doping and isolation of GaN.
著者 (5件):
PEARTON S J
(Univ. Florida, Florida)
,
VARTULI C B
(Univ. Florida, Florida)
,
ZOLPER J C
(Sandia National Lab., New Mexico)
,
YUAN C
(EMCORE Corp., New Jersey)
,
STALL R A
(EMCORE Corp., New Jersey)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
67
号:
10
ページ:
1435-1437
発行年:
1995年09月04日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)