文献
J-GLOBAL ID:200902142627320060
整理番号:02A0024701
水蒸気吸着による脱水シリカの再ヒドロキシル化
Rehydroxylation of dehydrated silica surfaces by water vapor adsorption.
著者 (5件):
SHIOJI S
(Wakayama National Coll. Technol., Gobo, JPN)
,
KAWAGUCHI M
(Wakayama National Coll. Technol., Gobo, JPN)
,
HAYASHI Y
(Wakayama National Coll. Technol., Gobo, JPN)
,
TOKAMI K
(Wakayama National Coll. Technol., Gobo, JPN)
,
YAMAMOTO H
(Soka Univ., Hachioji, JPN)
資料名:
Advanced Powder Technology
(Advanced Powder Technology)
巻:
12
号:
3
ページ:
331-342
発行年:
2001年
JST資料番号:
W0255A
ISSN:
0921-8831
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)