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文献
J-GLOBAL ID:200902143715518292   整理番号:93A0461975

気相エピタクシーでサファイア上に成長させたGaNのヘテロ構造における熱応力の緩和機構

Relaxation Mechanism of Thermal Stresses in the Heterostructure of GaN Grown on Sapphire by Vapor Phase Epitaxy.
著者 (3件):
HIRAMATSU K
(Nagoya Univ., Nagoya)
DETCHPROHM T
(Nagoya Univ., Nagoya)
AKASAKI I
(Meijo Univ., Nagoya)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)

巻: 32  号:ページ: 1528-1533  発行年: 1993年04月 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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