文献
J-GLOBAL ID:200902143884730578
整理番号:02A0642893
加熱触媒により生じた原子状水素を用いたフォトレジスト除去
Photoresist Removal using Atomic Hydrogen Generated by Heated Catalyzer.
著者 (2件):
IZUMI A
(JAIST (Japan Advanced Inst. Sci. and Technol.), Ishikawa, JPN)
,
MATSUMURA H
(JAIST (Japan Advanced Inst. Sci. and Technol.), Ishikawa, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
41
号:
7A
ページ:
4639-4641
発行年:
2002年07月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)