文献
J-GLOBAL ID:200902144440420811
整理番号:99A0999466
イオン注入により合成した窒化ほう素薄膜の微細構造の観察
Microstructural Observation of Boron Nitride Films Synthesized by Ion Implantation.
著者 (4件):
HU C
(Mie Univ., Mie, JPN)
,
KOTAKE S
(Mie Univ., Mie, JPN)
,
SUZUKI Y
(Mie Univ., Mie, JPN)
,
SENOO M
(Mie Univ., Mie, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
38
号:
10
ページ:
6054-6057
発行年:
1999年10月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)