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文献
J-GLOBAL ID:200902144682317551   整理番号:00A0437039

サファイア上にプラズマ誘起分子線エピタクシー法および有機金属化学蒸着法で成長させたGa面およびN面AlGaN/GaNヘテロ構造における二次元電子ガス

Two-dimensional electron gases in Ga-face and N-face AlGaN/GaN heterostructures grown by plasma-induced molecular beam epitaxy and metalorganic chemical vapor deposition on sapphire.
著者 (8件):
DIMITROV R
(Cornell Univ., New York)
MURPHY M
(Cornell Univ., New York)
SMART J
(Cornell Univ., New York)
SCHAFF W
(Cornell Univ., New York)
SHEALY J R
(Cornell Univ., New York)
EASTMAN L F
(Cornell Univ., New York)
AMBACHER O
(TU Munich, Garching, DEU)
STUTZMANN M
(TU Munich, Garching, DEU)

資料名:
Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)

巻: 87  号:ページ: 3375-3380  発行年: 2000年04月01日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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