文献
J-GLOBAL ID:200902144682317551
整理番号:00A0437039
サファイア上にプラズマ誘起分子線エピタクシー法および有機金属化学蒸着法で成長させたGa面およびN面AlGaN/GaNヘテロ構造における二次元電子ガス
Two-dimensional electron gases in Ga-face and N-face AlGaN/GaN heterostructures grown by plasma-induced molecular beam epitaxy and metalorganic chemical vapor deposition on sapphire.
著者 (8件):
DIMITROV R
(Cornell Univ., New York)
,
MURPHY M
(Cornell Univ., New York)
,
SMART J
(Cornell Univ., New York)
,
SCHAFF W
(Cornell Univ., New York)
,
SHEALY J R
(Cornell Univ., New York)
,
EASTMAN L F
(Cornell Univ., New York)
,
AMBACHER O
(TU Munich, Garching, DEU)
,
STUTZMANN M
(TU Munich, Garching, DEU)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
87
号:
7
ページ:
3375-3380
発行年:
2000年04月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)