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文献
J-GLOBAL ID:200902145174689261   整理番号:01A0233907

光原子層堆積によるほう素ドーピングZnO薄膜の作製

Preparation of boron-doped ZnO thin films by photo-atomic layer deposition.
著者 (4件):
YAMAMOTO Y
(Teikyo Univ. Sci. and Technol., Yamanashi, JPN)
SAITO K
(Teikyo Univ. Sci. and Technol., Yamanashi, JPN)
TAKAHASHI K
(Teikyo Univ. Sci. and Technol., Yamanashi, JPN)
KONAGAI M
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)

資料名:
Solar Energy Materials and Solar Cells  (Solar Energy Materials and Solar Cells)

巻: 65  号: 1/4  ページ: 125-132  発行年: 2001年01月 
JST資料番号: D0513C  ISSN: 0927-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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