文献
J-GLOBAL ID:200902145174689261
整理番号:01A0233907
光原子層堆積によるほう素ドーピングZnO薄膜の作製
Preparation of boron-doped ZnO thin films by photo-atomic layer deposition.
著者 (4件):
YAMAMOTO Y
(Teikyo Univ. Sci. and Technol., Yamanashi, JPN)
,
SAITO K
(Teikyo Univ. Sci. and Technol., Yamanashi, JPN)
,
TAKAHASHI K
(Teikyo Univ. Sci. and Technol., Yamanashi, JPN)
,
KONAGAI M
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名:
Solar Energy Materials and Solar Cells
(Solar Energy Materials and Solar Cells)
巻:
65
号:
1/4
ページ:
125-132
発行年:
2001年01月
JST資料番号:
D0513C
ISSN:
0927-0248
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)