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著者 (6件)：
資料名：
巻： 337 号： 1/2 ページ： 51-54 発行年： 1999年01月11日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902145902729593
整理番号：99A0297053
SiO2またはガラス基板にLPCVD蒸着させた非晶質SiGe膜の固相結晶化
Solid-phase crystallization of amorphous SiGe films deposited by LPCVD on SiO2 and glass.
OLIVARES J
(E.T.S.I. de Telecomunicacion, Madrid, ESP)
,
RODRIGUEZ A
(E.T.S.I. de Telecomunicacion, Madrid, ESP)
,
SANGRADOR J
(E.T.S.I. de Telecomunicacion, Madrid, ESP)
,
RODRIGUEZ T
(E.T.S.I. de Telecomunicacion, Madrid, ESP)
,
BALLESTEROS C
(Univ. Carlos III, Madrid, ESP)
,
KLING A
(Univ. Lisboa, Lisboa, PRT)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 337 号： 1/2 ページ： 51-54 発行年： 1999年01月11日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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