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著者 (7件)：
資料名：
巻： 78 号： 3 ページ： 294-296 発行年： 2001年01月15日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902146734129689
整理番号：01A0310660
プラズマ増強化学気相蒸着により成長した水素化非晶質カーボン薄膜中の欠陥状態の低密度
Low density of defect states in hydrogenated amorphous carbon thin films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition.
KRISHNA K M
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
EBISU H
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
HAGIMOTO K
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
HAYASHI Y
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
SOGA T
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
JIMBO T
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
,
UMENO M
(Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 78 号： 3 ページ： 294-296 発行年： 2001年01月15日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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