文献
J-GLOBAL ID:200902147111200079
整理番号:98A0667088
セレン化処理中のFexSey薄膜の構造と磁気的性質
Structural and magnetic properties of FexSey thin films during their selenization process.
著者 (6件):
TAKAHASHI T
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
,
KUNO S
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
,
HONDA N
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
,
TAKEMURA Y
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
,
KAKUNO K
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
,
SAITO K
(Teikyo Univ. Sci. and Technol., Yamanashi, JPN)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
83
号:
11, Pt.2
ページ:
6533-6535
発行年:
1998年06月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)