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文献
J-GLOBAL ID:200902147111200079   整理番号:98A0667088

セレン化処理中のFexSey薄膜の構造と磁気的性質

Structural and magnetic properties of FexSey thin films during their selenization process.
著者 (6件):
TAKAHASHI T
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
KUNO S
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
HONDA N
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
TAKEMURA Y
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
KAKUNO K
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
SAITO K
(Teikyo Univ. Sci. and Technol., Yamanashi, JPN)

資料名:
Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)

巻: 83  号: 11, Pt.2  ページ: 6533-6535  発行年: 1998年06月01日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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