文献
J-GLOBAL ID:200902147363997158
整理番号:00A0579748
半導体ナノ構造体製造のためのSR誘起エッチングとOMVPE成長
SR-stimulated etching and OMVPE growth for semiconductor nanostructure fabrication.
著者 (8件):
NONOGAKI Y
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
HATATE H
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
OGA R
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
YAMAMOTO S
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
FUJIWARA Y
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
TAKEDA Y
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
NODA H
(Inst. Molecular Sci., Okazaki, JPN)
,
URISU T
(Inst. Molecular Sci., Okazaki, JPN)
資料名:
Materials Science & Engineering. B. Solid-State Materials for Advanced Technology
(Materials Science & Engineering. B. Solid-State Materials for Advanced Technology)
巻:
B74
号:
1/3
ページ:
7-11
発行年:
2000年05月01日
JST資料番号:
T0553A
ISSN:
0921-5107
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)