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文献
J-GLOBAL ID:200902147508033780   整理番号:00A0751686

二重ビームエキシマレーザと厚い酸化層部分による大型Si粒の位置制御

Location-Control of Large Si Grains by Dual-Beam Excimer-Laser and Thick Oxide Portion.
著者 (3件):
ISHIHARA R
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
BURTSEV A
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
ALKEMADE P F A
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)

巻: 39  号: 7A  ページ: 3872-3878  発行年: 2000年07月15日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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