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資料名：
巻： 11 号： 2 ページ： 161-164 発行年： 2002年05月
JST資料番号： W0479A ISSN： 0963-0252 CODEN： PSTEEU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902148101254835
整理番号：02A0539266
プラズマ含浸イオン注入における入射イオン粒子束モニタのためのシース加速二次電子の直接測定
Direct measurements of sheath-accelerated secondary electrons for monitoring the incident ion flux in plasma immersion ion implantation.
NAKAMURA K
(Chubu Univ., JPN)
,
TANAKA M
(Nagoya Univ., JPN)
,
SUGAI H
(Nagoya Univ., JPN)
資料名：
Plasma Sources Science and Technology
(Plasma Sources Science and Technology)
巻： 11 号： 2 ページ： 161-164 発行年： 2002年05月
JST資料番号： W0479A ISSN： 0963-0252 CODEN： PSTEEU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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