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資料名：
巻： 8 号： 2 ページ： 376-381 発行年： 1996年02月
JST資料番号： T0893A ISSN： 0897-4756 CODEN： CMATEX 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902148456580938
整理番号：96A0328679
化学的に増幅された電子ビームフォトレジスト
Chemically Amplified Electron-Beam Photoresists.
CRIVELLO J V
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York)
,
SHIM S-Y
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York)
資料名：
Chemistry of Materials
(Chemistry of Materials)
巻： 8 号： 2 ページ： 376-381 発行年： 1996年02月
JST資料番号： T0893A ISSN： 0897-4756 CODEN： CMATEX 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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