文献
J-GLOBAL ID:200902148468844736
整理番号:02A0687186
アークイオンめっきにより堆積したTiN膜の構造
The structure of TiN films deposited by arc ion plating.
著者 (3件):
MATSUE T
(Niihama National Coll. Technol., Niihama, JPN)
,
HANABUSA T
(Tokushima Univ., Tokushima, JPN)
,
IKEUCHI Y
(Niihama National Coll. Technol., Niihama, JPN)
資料名:
Vacuum
(Vacuum)
巻:
66
号:
3/4
ページ:
435-439
発行年:
2002年08月19日
JST資料番号:
E0347A
ISSN:
0042-207X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)