文献
J-GLOBAL ID:200902148504989649
整理番号:99A0143344
分子ビームエピタクシーによって作製したGaAs/Si/GaAs(100)ヘテロ構造中の副格子反転
Sublattice Reversal in GaAs/Si/GaAs (100) Heterostructures by Molecular Beam Epitaxy.
著者 (9件):
KOH S
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
KONDO T
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
ISHIWADA T
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
IWAMOTO C
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
ICHINOSE H
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
YAGUCHI H
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
USAMI T
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
SHIRAKI Y
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
ITO R
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
37
号:
12B
ページ:
L1493-L1496
発行年:
1998年12月15日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)