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著者 (5件)：
資料名：
巻： 38 号： 7B ページ： 4377-4379 発行年： 1999年07月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902148820518704
整理番号：99A0772520
CF4/H2プラズマ中でCFラジカルにフルオロカーボン薄膜が及ぼす効果
Effects of Fluorocarbon Films on CF Radical in CF4/H2 Plasma.
ARAI T
(Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN)
,
GOTO M
(Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN)
,
HORIKOSHI K
(Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN)
,
MASHINO S
(Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN)
,
AIKYO S
(Kanagawa Inst. Technol., Atsugi, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 38 号： 7B ページ： 4377-4379 発行年： 1999年07月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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