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文献
J-GLOBAL ID:200902149361554251   整理番号:01A0114811

フォトリソグラフィによるSiウエハ上へのパターニング

Patterning on Silicon Wafers by Photolithography.
著者 (8件):
安間守
(静岡県静岡工技セ)
佐藤夏夫
(静岡県静岡工技セ)
佐藤憲治
(静岡県静岡工技セ)
吉岡正行
(静岡県静岡工技セ)
長津義之
(静岡県静岡工技セ)
横山尚人
(富士セラミックス)
浦野秀一
(スターシステム開発)
飯田克彦
(駿河精機)

資料名:
静岡県静岡工業技術センター研究報告  (Reports of the Shizuoka Industrial Research Institute of Shizuoka Prefecture)

号: 45  ページ: 11-16  発行年: 2000年10月 
JST資料番号: G0604A  ISSN: 0916-6572  CODEN: SSSHEX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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