文献
J-GLOBAL ID:200902152842705130
整理番号:97A0898013
NiSi2島周囲におけるSi中の局在歪分布の収束ビーム電子回折測定
Convergent Beam Electron Diffraction Measurement for Local Strain Distribution in Si around a NiSi2 Island.
著者 (3件):
WAKAYAMA Y
(Japan Sci. and Res. Corp., Yokohama, JPN)
,
TAKAHASHI Y
(Japan Sci. and Res. Corp., Yokohama, JPN)
,
TANAKA S
(Japan Sci. and Res. Corp., Yokohama, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
36
号:
8
ページ:
5072-5078
発行年:
1997年08月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)