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文献
J-GLOBAL ID:200902154006977935   整理番号:97A0125641

有機金属気相エピタクシーによるGaAs基板上でのInPの2段階成長

Two-step growth of InP on GaAs substrates by metalorganic vapor phase epitaxy.
著者 (6件):
TAKANO Y
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
SASAKI T
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
NAGAKI Y
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
KUWAHARA K
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
FUKE S
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
IMAI T
(Meisei Univ., Ome, JPN)

資料名:
Journal of Crystal Growth  (Journal of Crystal Growth)

巻: 169  号:ページ: 621-624  発行年: 1996年12月 
JST資料番号: B0942A  ISSN: 0022-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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