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著者 (4件)：
資料名：
巻： 283 号： 1/3 ページ： 129-136 発行年： 2001年05月
JST資料番号： D0642A ISSN： 0022-3093 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902154982919389
整理番号：01A0670476
SiO2膜のCeO2粒子による研磨の機構
Mechanism of polishing of SiO2 films by CeO2 particles.
HOSHINO T
(Hitachi Chemical Co. Ltd., Ibaraki, JPN)
,
KURATA Y
(Hitachi Chemical Co. Ltd., Ibaraki, JPN)
,
TERASAKI Y
(Hitachi Chemical Co. Ltd., Ibaraki, JPN)
,
SUSA K
(Hitachi Chemical Co. Ltd., Ibaraki, JPN)
資料名：
Journal of Non-Crystalline Solids
(Journal of Non-Crystalline Solids)
巻： 283 号： 1/3 ページ： 129-136 発行年： 2001年05月
JST資料番号： D0642A ISSN： 0022-3093 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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