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文献
J-GLOBAL ID:200902155611824802   整理番号:00A0768001

けい素(001)上のエピタキシャル二けい化エルビウムナノ細線の自己集合成長

Self-assembled growth of epitaxial erbium disilicide nanowires on silicon(001).
著者 (5件):
CHEN Y
(Hewlett-Packard Lab., California)
OHLBERG D A A
(Hewlett-Packard Lab., California)
MEDEIROS-RIBEIRO G
(Hewlett-Packard Lab., California)
CHANG Y A
(Hewlett-Packard Lab., California)
WILLIAMS R S
(Hewlett-Packard Lab., California)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 76  号: 26  ページ: 4004-4006  発行年: 2000年06月26日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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