文献
J-GLOBAL ID:200902155805416403
整理番号:00A0327275
スパッタ蒸着した窒素ドープ非晶質Ge2Sb2Te5薄膜の結晶化の挙動
Investigation of Crystallization Behavior of Sputter-Deposited Nitrogen-Doped Amorphous Ge2Sb2Te5 Thin Films.
著者 (6件):
SEO H
(LG Corporate Inst. Technol., Seoul, KOR)
,
JEONG T-H
(LG Corporate Inst. Technol., Seoul, KOR)
,
PARK J-W
(LG Corporate Inst. Technol., Seoul, KOR)
,
YEON C
(LG Corporate Inst. Technol., Seoul, KOR)
,
KIM S-J
(Ajou Univ., Suwon, KOR)
,
KIM S-Y
(Ajou Univ., Suwon, KOR)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
39
号:
2B
ページ:
745-751
発行年:
2000年02月28日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)