文献
J-GLOBAL ID:200902155975499281
整理番号:96A0430648
高光導電性アモルファスa-SiOx:H膜のSi-O-Si振動吸収の構造解釈
A structural interpretation of Si-O-Si vibrational absorption of high-photoconductive amorphous a-SiOx:H films.
著者 (2件):
HAGA K
(Sendai National Coll. Technol., Sendai, JPN)
,
WATANABE H
(Sendai National Coll. Technol., Sendai, JPN)
資料名:
Journal of Non-Crystalline Solids
(Journal of Non-Crystalline Solids)
巻:
195
号:
1/2
ページ:
72-75
発行年:
1996年02月
JST資料番号:
D0642A
ISSN:
0022-3093
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)