文献
J-GLOBAL ID:200902156251718751
整理番号:01A0078747
水素化物気相エピタクシーによる自立GaN基板
Free-Standing GaN Substrates by Hydride Vapor Phase Epitaxy.
著者 (3件):
PARK S S
(Samsung Advanced Inst. Technol., Suwon,KOR)
,
PARK I-W
(Korea Univ., Seoul, KOR)
,
CHOH S H
(Korea Univ., Seoul, KOR)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
39
号:
11B
ページ:
L1141-L1142
発行年:
2000年11月15日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)