文献
J-GLOBAL ID:200902156443586344
整理番号:97A0247691
自己組織化単分子膜のフォトリソグラフィー 電気分析的方法による保護基の最適化
Photolithography of self-assembled monolayers: optimization of protecting groups by an electroanalytical method.
著者 (3件):
JENNANE J
(Univ. Montreal, Montreal, CAN)
,
BOUTROS T
(Univ. Montreal, Montreal, CAN)
,
GIASSON R
(Univ. Montreal, Montreal, CAN)
資料名:
Canadian Journal of Chemistry
(Canadian Journal of Chemistry)
巻:
74
号:
12
ページ:
2509-2517
発行年:
1996年12月
JST資料番号:
B0228A
ISSN:
0008-4042
CODEN:
CJCHAG
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
カナダ (CAN)
言語:
英語 (EN)