文献
J-GLOBAL ID:200902156577100880
整理番号:93A0835011
ほう素膜の窒素イオン注入による六方晶窒化ほう素合成
Hexagonal boron nitride synthesis by nitrogen ion implantation of boron films.
著者 (2件):
BAAZI T
(Univ. Laval, Qu<span style=text-decoration:overline>e ́</span>., CAN)
,
KNYSTAUTAS E J
(Univ. Laval, Qu<span style=text-decoration:overline>e ́</span>., CAN)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
232
号:
2
ページ:
185-193
発行年:
1993年09月25日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)