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文献
J-GLOBAL ID:200902156981136928   整理番号:01A0283997

共スパッタリングにより作製したTiSi2薄膜中の欠陥および電子構造 I 透過型電子顕微鏡による欠陥の解析

Defect and electronic structures in TiSi2 thin films produced by co-sputtering. Part 1: Defect analysis by transmission electron microscopy.
著者 (7件):
INUI H
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
HASHIMOTO T
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
TANAKA K
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
TANAKA I
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
MIZOGUCHI T
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
ADACHI H
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
YAMAGUCHI M
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)

資料名:
Acta Materialia  (Acta Materialia)

巻: 49  号:ページ: 83-92  発行年: 2001年01月08日 
JST資料番号: A0316A  ISSN: 1359-6454  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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