文献
J-GLOBAL ID:200902156981136928
整理番号:01A0283997
共スパッタリングにより作製したTiSi2薄膜中の欠陥および電子構造 I 透過型電子顕微鏡による欠陥の解析
Defect and electronic structures in TiSi2 thin films produced by co-sputtering. Part 1: Defect analysis by transmission electron microscopy.
著者 (7件):
INUI H
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
HASHIMOTO T
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
TANAKA K
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
TANAKA I
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
MIZOGUCHI T
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
ADACHI H
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
YAMAGUCHI M
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名:
Acta Materialia
(Acta Materialia)
巻:
49
号:
1
ページ:
83-92
発行年:
2001年01月08日
JST資料番号:
A0316A
ISSN:
1359-6454
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)