文献
J-GLOBAL ID:200902158034699458
整理番号:99A0791573
ステップおよびフラッシュインプリントリソグラフィ:高解像度パターニングへの新しいアプローチ
Step and Flash Imprint Lithography: A New Approach to High-Resolution Patterning.
著者 (9件):
COLBURN M
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
JOHNSON S
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
STEWART M
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
DAMLE S
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
BAILEY T
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
CHOI B
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
WEDLAKE M
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
MICHAELSON T
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
WILLSON C G
(Univ. Texas at Austin, TX)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
3676
号:
Pt.1
ページ:
379-389
発行年:
1999年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)