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著者 (4件)：
資料名：
巻： 292 号： 1/2 ページ： 1-6 発行年： 1997年01月05日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902158494311296
整理番号：97A0326000
完全性の高いSiC薄膜 X線二結晶回折法及びX線二結晶トポグラフィーによる研究
Highly perfect thin films of SiC: X-ray double crystal diffractometry and X-ray double crystal topographic study.
CHAUDHURI J
(Wichita State Univ., KS, USA)
,
CHENG X
(Wichita State Univ., KS, USA)
,
YUAN C
(Emcore Corp., NJ, USA)
,
STECKL A J
(Univ. Cincinnati, OH, USA)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 292 号： 1/2 ページ： 1-6 発行年： 1997年01月05日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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