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著者 (2件)：
資料名：
巻： 44 号： 21/22 ページ： 3927-3932 発行年： 1999年
JST資料番号： B0535B ISSN： 0013-4686 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902158695638838
整理番号：99A0692525
ITO薄膜析出に用いる低エネルギーrfスパッタリング系
Low energy rf sputtering system for the deposition of ITO thin films.
HOSHI Y
(Tokyo Inst. Polytechnics, Kanagawa, JPN)
,
OHKI R
(Tokyo Inst. Polytechnics, Kanagawa, JPN)
資料名：
Electrochimica Acta
(Electrochimica Acta)
巻： 44 号： 21/22 ページ： 3927-3932 発行年： 1999年
JST資料番号： B0535B ISSN： 0013-4686 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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