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文献
J-GLOBAL ID:200902158857024189   整理番号:96A0613996

193nmレジスト用の新規の重合体

A Novel Polymer for a 193-nm Resist.
著者 (6件):
NOZAKI K
(Fijitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)
WATANABE K
(Fijitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)
YANO E
(Fijitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)
KOTACHI A
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
TAKECHI S
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
HANYU I
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)

資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)

巻:号:ページ: 509-522  発行年: 1996年 
JST資料番号: L0202A  ISSN: 0914-9244  CODEN: JSTEEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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