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著者 (3件)：
資料名：
巻： 44 号： 21/22 ページ： 3945-3952 発行年： 1999年
JST資料番号： B0535B ISSN： 0013-4686 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902159237223218
整理番号：99A0692527
スパッタリングによるTi薄膜の結晶方位の制御
Control of crystal orientation of Ti thin films by sputtering.
HOSHI Y
(Tokyo Inst. Polytechnics, Kanagawa, JPN)
,
SUZUKI E
(Tokyo Inst. Polytechnics, Kanagawa, JPN)
,
SHIMIZU H
(Niigata Univ., Niigata, JPN)
資料名：
Electrochimica Acta
(Electrochimica Acta)
巻： 44 号： 21/22 ページ： 3945-3952 発行年： 1999年
JST資料番号： B0535B ISSN： 0013-4686 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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