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著者 (4件)：
資料名：
巻： 355/356 ページ： 210-213 発行年： 1999年11月
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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文献
J-GLOBAL ID：200902160203785169
整理番号：00A0113469
RFスパッタリングで堆積したB4C薄膜の特性に対するイオン衝撃の影響
Effect of ion bombardment on the properties of B4C thin films deposited by RF sputtering.
LOUSA A
(Univ. Barcelona, Catalunya, ESP)
,
MARTINEZ E
(Univ. Barcelona, Catalunya, ESP)
,
ESTEVE J
(Univ. Barcelona, Catalunya, ESP)
,
PASCUAL E
(Univ. Barcelona, Catalunya, ESP)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 355/356 ページ： 210-213 発行年： 1999年11月
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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