文献
J-GLOBAL ID:200902161013538765
整理番号:02A0786708
大径シリコンウエハ平坦度測定用の小型高感度二次元角度プローブ
A compact and sensitive two-dimensional angle probe for flatness measurement of large silicon wafers.
著者 (4件):
GAO W
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
HUANG P S
(SUNY at Stony Brook, NY, USA)
,
YAMADA T
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
KIYONO S
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名:
Precision Engineering
(Precision Engineering)
巻:
26
号:
4
ページ:
396-404
発行年:
2002年10月
JST資料番号:
A0734B
ISSN:
0141-6359
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)