文献
J-GLOBAL ID:200902161247859107
整理番号:97A0098547
量子ドット蒸着法で形成した薄膜特性
Characterization of thin film produced by quantum dot deposition process.
著者 (4件):
AONO S
(Doshisha Univ., Kyoto, JPN)
,
ITOH M
(Doshisha Univ., Kyoto, JPN)
,
TAKANO H
(Doshisha Univ., Kyoto, JPN)
,
TOHNO S
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名:
Journal of Aerosol Science
(Journal of Aerosol Science)
巻:
27
号:
Suppl 1
ページ:
S149-S150
発行年:
1996年09月
JST資料番号:
D0776A
ISSN:
0021-8502
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)