文献
J-GLOBAL ID:200902161350949572
整理番号:00A0075676
1μmゲート長を持つダイヤモンド薄膜の高効率な金属-半導体電界効果トランジスタ
High-Performance Diamond Metal-Semiconductor Field-Effect Transistor with 1μm Gate Length.
著者 (6件):
UMEZAWA H
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
TSUGAWA K
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
YAMANAKA S
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
,
TAKEUCHI D
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
,
OKUSHI H
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
,
KAWARADA H
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
38
号:
11A
ページ:
L1222-L1224
発行年:
1999年11月01日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)