文献
J-GLOBAL ID:200902161714174369
整理番号:01A0913633
BNの蒸着へのふっ素の導入 残留応力の低い高品質なcBN厚膜を得るための有効な方法
The introducing of fluorine into the deposition of BN: a successful method to obtain high-quality, thick cBN films with low residual stress.
著者 (2件):
MATSUMOTO S
(National Inst. Materials Sci., Tsukuba-city, JPN)
,
ZHANG W J
(National Inst. Materials Sci., Tsukuba-city, JPN)
資料名:
Diamond and Related Materials
(Diamond and Related Materials)
巻:
10
号:
9/10
ページ:
1868-1874
発行年:
2001年09月
JST資料番号:
W0498A
ISSN:
0925-9635
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)