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文献
J-GLOBAL ID:200902161714174369   整理番号:01A0913633

BNの蒸着へのふっ素の導入 残留応力の低い高品質なcBN厚膜を得るための有効な方法

The introducing of fluorine into the deposition of BN: a successful method to obtain high-quality, thick cBN films with low residual stress.
著者 (2件):
MATSUMOTO S
(National Inst. Materials Sci., Tsukuba-city, JPN)
ZHANG W J
(National Inst. Materials Sci., Tsukuba-city, JPN)

資料名:
Diamond and Related Materials  (Diamond and Related Materials)

巻: 10  号: 9/10  ページ: 1868-1874  発行年: 2001年09月 
JST資料番号: W0498A  ISSN: 0925-9635  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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